3月25日|近日,北方華創正式發佈全新一代12英寸高端電感耦合等離子體(ICP)刻蝕設備——NMC612H。該設備聚焦先進邏輯與先進存儲領域關鍵刻蝕工藝需求,攻克了全新一代精準偏壓控制、射頻多態脈衝控制、超高速通訊網絡控制等多項技術難題。